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文献
J-GLOBAL ID：201202265072833288
整理番号：12A0838321
高周波プラズマを使ったN@C60の高純度合成と紫外線照射下での安定性
High Purity Synthesis of N@C60 Using RF-Plasma and Its Stability under UV-Irradiation
CHO S. C.
(Tohoku Univ.)
,
KANEKO T.
(Tohoku Univ.)
,
HATAKEYAMA R.
(Tohoku Univ.)
資料名：
フラーレン・ナノチューブ・グラフェン総合シンポジウム講演要旨集
(Abstracts. Fullerenes-Nanotubes-Graphene General Symposium)
巻： 42nd ページ： 137 発行年： 2012年03月06日
JST資料番号： L1472A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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