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文献
J-GLOBAL ID：201202265334624707
整理番号：12A0783982
超薄アモルファスシリコン膜のSiナノドット形成へのKrFパルスエキシマレーザ結晶化の動的過程
Dynamical process of KrF pulsed excimer laser crystallization of ultrathin amorphous silicon films to form Si nano-dots
CHEN Guran
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
XU Jun
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
XU Wei
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
SUN Hongcheng
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
MU Weiwei
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
SUN Shenghua
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
MA Zhongyuan
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
HUANG Xinfan
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
,
CHEN Kunji
(National Lab. of Solid State Microstructures, Key Lab. of Advanced Photonic and Electronic Materials, School of ...)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 111 号： 9 ページ： 094320-094320-5 発行年： 2012年05月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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