文献
J-GLOBAL ID:201202265820532334
整理番号:12A1668389
超解像近接場フォトリソグラフィを利用したナノスケール線分の製作
Nanoscale Line Segment Fabrication Using Super-Resolution Near-Field Photolithography
著者 (1件):
YANG Ching-Been
(Taoyuan Innovation Inst. of Technol., Chung Li City, TWN)
資料名:
Scanning
(Scanning)
巻:
34
号:
5
ページ:
284-294
発行年:
2012年09月
JST資料番号:
D0300B
ISSN:
0161-0457
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)