文献
J-GLOBAL ID:201202266005123825
整理番号:12A0248631
Ti及びNb2O5 ターゲットからの反応性共スパッタリングにより生成したTiOx とNbドープ膜の透過伝導特性
Transparent Conductive Properties of TiOx and Nb-Doped TiOx Films Produced by Reactive Co-Sputtering from Ti and Nb2O5 Targets
著者 (1件):
AKAZAWA Housei
(NTT Microsystem Integration Lab., Kanagawa, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
1,Issue 1
ページ:
015803.1-015803.5
発行年:
2012年01月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)