文献
J-GLOBAL ID:201202266318972033
整理番号:12A0993919
スケーラブルなナノスフィアリソグラフィと選択領域成長を用いたナノワイヤアレイにおける最適化光利用に向けて
Toward Optimized Light Utilization in Nanowire Arrays Using Scalable Nanosphere Lithography and Selected Area Growth
著者 (9件):
MADARIA Anuj R.
(Univ. Southern California, California, USA)
,
YAO Maoqing
(Univ. Southern California, California, USA)
,
CHI ChunYung
(Univ. Southern California, California, USA)
,
HUANG Ningfeng
(Univ. Southern California, California, USA)
,
LIN Chenxi
(Univ. Southern California, California, USA)
,
LI Ruijuan
(Univ. Southern California, California, USA)
,
POVINELLI Michelle L.
(Univ. Southern California, California, USA)
,
DAPKUS P. Daniel
(Univ. Southern California, California, USA)
,
ZHOU Chongwu
(Univ. Southern California, California, USA)
資料名:
Nano Letters
(Nano Letters)
巻:
12
号:
6
ページ:
2839-2845
発行年:
2012年06月
JST資料番号:
W1332A
ISSN:
1530-6984
CODEN:
NALEFD
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)