文献
J-GLOBAL ID:201202266384478708
整理番号:12A0785516
太陽電池工業のプロセスエッチング液の分光光度分析 二原子分子および原子の高分解能連続源吸収分光法を用いたHNO3,HF,およびH2SiF6の定量
Spectrometric analysis of process etching solutions of the photovoltaic industry-Determination of HNO3, HF, and H2SiF6 using high-resolution continuum source absorption spectrometry of diatomic molecules and atoms
著者 (2件):
BUECKER Stefan
(Hochsch. Lausitz (FH) - Univ. of Applied Sciences, Fac. of Natural Sciences, Dep. of Chemistry, Grossenhainer ...)
,
ACKER Joerg
(Hochsch. Lausitz (FH) - Univ. of Applied Sciences, Fac. of Natural Sciences, Dep. of Chemistry, Grossenhainer ...)
資料名:
Talanta
(Talanta)
巻:
94
ページ:
335-341
発行年:
2012年05月30日
JST資料番号:
E0324A
ISSN:
0039-9140
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)