文献
J-GLOBAL ID:201202266700473055
整理番号:12A0905133
Siナノワイヤと接するシリサイドの形成
Silicide formation in contacts to Si nanowires
著者 (3件):
DELLAS N. S.
(The Pennsylvania State Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, 16802, Univ. Park, PA, USA)
,
SCHUH C. J.
(The Pennsylvania State Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, 16802, Univ. Park, PA, USA)
,
MOHNEY S. E.
(The Pennsylvania State Univ., Dep. of Materials Sci. and Engineering, 16802, Univ. Park, PA, USA)
資料名:
Journal of Materials Science
(Journal of Materials Science)
巻:
47
号:
17
ページ:
6189-6205
発行年:
2012年09月
JST資料番号:
B0722A
ISSN:
0022-2461
CODEN:
JMTSAS
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)