文献
J-GLOBAL ID:201202267751991561
整理番号:12A1525034
高オーバーレイ精度e-ビームリソグラフィのための最適化マーカーの定義
Optimized marker definition for high overlay accuracy e-beam lithography
著者 (9件):
MOERS J.
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
GRUTZMACHER D.
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
TRELLENKAMP St.
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
OFFENHAUSSER A.
(Forschungszentrum Juelich GmbH, Juelich, DEU)
,
MOERS J.
(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)
,
TRELLENKAMP St.
(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)
,
GRUTZMACHER D.
(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)
,
OFFENHAUSSER A.
(JARA-Fundamentals of Future Information Technol. (JARA-FIT), DEU)
,
RIENKS B.
(Vistec Lithography B.V., Best, NLD)
資料名:
Microelectronic Engineering
(Microelectronic Engineering)
巻:
97
ページ:
68-71
発行年:
2012年09月
JST資料番号:
C0406B
ISSN:
0167-9317
CODEN:
MIENEF
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)