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文献
J-GLOBAL ID：201202267942290709
整理番号：12A1311594
高温応用のための高放射率ニッケルフォトニック結晶上へのSiC薄膜のマグネトロンスパッタリング
Magnetron sputtering SiC films on nickel photonic crystals with high emissivity for high temperature applications
LI Zhenyu
(Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN)
,
YANG Lili
(School of Transportation Sci. and Engineering, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150090, CHN)
,
GE Dengteng
(Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN)
,
DING Yanbo
(School of Chemical Engineering and Technol., Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN)
,
PAN Lei
(Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN)
,
ZHAO Jiupeng
(School of Chemical Engineering and Technol., Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN)
,
LI Yao
(Center for Composite Materials and Structure, Harbin Inst. of Technol., Harbin 150001, CHN)
資料名：
Applied Surface Science
(Applied Surface Science)
巻： 259 ページ： 811-815 発行年： 2012年10月15日
JST資料番号： B0707B ISSN： 0169-4332 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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