文献
J-GLOBAL ID:201202268111576270
整理番号:12A0675938
シリコン(111)面上のケイ化鉄薄膜の形成と性質: ab initioシミュレーション
Formation and properties of thin films of iron silicides on Si(111) Surface: Ab initio simulation
著者 (3件):
KUYANOV I. A.
(Russian Acad. of Sciences, St. Petersburg Academic Univ., Nanotechnology Res. and Education Center, 195220, St. ...)
,
ALEKSEEV A. A.
(Far East Div. of the Russian Acad. of Sciences, Inst. of Automation and Control Processes, 690041, Vladivostok, RUS)
,
ZOTOV A. V.
(Far East Div. of the Russian Acad. of Sciences, Inst. of Automation and Control Processes, 690041, Vladivostok, RUS)
資料名:
Technical Physics Letters
(Technical Physics Letters)
巻:
38
号:
3
ページ:
215-217
発行年:
2012年03月
JST資料番号:
H0665A
ISSN:
1063-7850
CODEN:
TPLEED
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)