文献
J-GLOBAL ID:201202268274786647
整理番号:12A1057329
Al2O3/Ge構造への酸素熱処理および酸素ラジカル処理による界面反応機構の解明
Clarification of Interfacial Reaction Mechanism in O2 Annealing or O radical Process for Al2O3/Ge Structure
著者 (8件):
柴山茂久
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
加藤公彦
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
加藤公彦
(日本学術振興会)
,
坂下満男
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
竹内和歌奈
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
田岡紀之
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
中塚理
(名古屋大 大学院工学研究科)
,
財満鎭明
(名古屋大 大学院工学研究科)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
112
号:
92(SDM2012 43-62)
ページ:
27-32
発行年:
2012年06月14日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)