文献
J-GLOBAL ID:201202268444023147
整理番号:12A0588815
低温ラジカル酸化によるGe/GeO2ゲートスタックの形成とその特性
Characteristics of Ge oxidation using O radicals at low temperature
著者 (11件):
SONG W.
(Univ. of Tokyo)
,
ZHANG W.
(Univ. of Tokyo)
,
ZHANG W.
(JST-CREST)
,
NISHIMURA T.
(Univ. of Tokyo)
,
NISHIMURA T.
(JST-CREST)
,
NAGASHIO K.
(Univ. of Tokyo)
,
NAGASHIO K.
(JST-CREST)
,
KITA K.
(Univ. of Tokyo)
,
KITA K.
(JST-CREST)
,
TORIUMI A.
(Univ. of Tokyo)
,
TORIUMI A.
(JST-CREST)
資料名:
応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)
(Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻:
59th
ページ:
ROMBUNNO.16P-A4-14
発行年:
2012年02月29日
JST資料番号:
Y0054B
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)