文献
J-GLOBAL ID:201202268689967175
整理番号:12A0785055
窒化ケイ素薄膜の熱伝導率に対する歪の影響
Influence of strain on thermal conductivity of silicon nitride thin films
著者 (5件):
ALAM M T
(Penn State Univ., PA, USA)
,
MANOHARAN M P
(Penn State Univ., PA, USA)
,
HAQUE M A
(Penn State Univ., PA, USA)
,
MURATORE C
(Air Force Res. Lab., OH, USA)
,
VOEVODIN A
(Air Force Res. Lab., OH, USA)
資料名:
Journal of Micromechanics and Microengineering
(Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻:
22
号:
4
ページ:
045001,1-8
発行年:
2012年04月
JST資料番号:
W1424A
ISSN:
0960-1317
CODEN:
JMMIEZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)