文献
J-GLOBAL ID:201202268719800181
整理番号:12A0345299
MILC成長長さと電気特性における下層絶縁層の影響
Impacts of the Underlying Insulating Layers on the MILC Growth Length and Electrical Characteristics
著者 (4件):
LIAO Chia-Chun
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LIN Min-Chen
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LIU Shao-Xuan
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
CHAO Tien-Sheng
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
資料名:
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻:
33
号:
2
ページ:
239-241
発行年:
2012年02月
JST資料番号:
B0344B
ISSN:
0741-3106
CODEN:
EDLEDZ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)