文献
J-GLOBAL ID:201202268736859874
整理番号:12A1464307
化学的リフトオフリソグラフィーによる減算的パターン形成
Subtractive Patterning via Chemical Lift-Off Lithography
著者 (8件):
LIAO Wei-Ssu
(Univ. California, CA, USA)
,
CHEUNKAR Sarawut
(Univ. California, CA, USA)
,
CHEUNKAR Sarawut
(Pennsylvania State Univ., PA, USA)
,
CAO Huan H.
(Univ. California, CA, USA)
,
BEDNAR Heidi R.
(Univ. California, CA, USA)
,
WEISS Paul S.
(Univ. California, CA, USA)
,
WEISS Paul S.
(Pennsylvania State Univ., PA, USA)
,
ANDREWS Anne M.
(Univ. California, CA, USA)
資料名:
Science
(Science)
巻:
337
号:
6101
ページ:
1517-1521
発行年:
2012年09月21日
JST資料番号:
E0078A
ISSN:
0036-8075
CODEN:
SCIEA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)