文献
J-GLOBAL ID:201202269236217252
整理番号:12A1209476
基板加熱成膜によるc面配向Coスパッタ薄膜の完全六方晶化
Perfect Hcp Atomic-layer Stacking for Sputtered Co Film with c-plane Sheet Texture by Substrate Heating Sputtering
著者 (4件):
野沢直樹
(東北大 大学院工学研究科)
,
斉藤伸
(東北大 大学院工学研究科)
,
日向慎太朗
(東北大 大学院工学研究科)
,
高橋研
(東北大 未来科学技術共同研究セ)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
112
号:
137(MR2012 9-18)
ページ:
41-46
発行年:
2012年07月12日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)