文献
J-GLOBAL ID:201202270825750287
整理番号:12A0534760
Niをコーティングしたシリコン基板上への単純な加熱法による酸化ケイ素ナノワイヤの作製
Fabrication of silicon oxide nanowires on Ni coated silicon substrate by simple heating process
著者 (3件):
PENG B.
(Gyeongsang National Univ., Gyeongnam, KOR)
,
HA J.-K.
(Gyeongsang National Univ., Gyeongnam, KOR)
,
CHO K.-K.
(Gyeongsang National Univ., Gyeongnam, KOR)
資料名:
Materials Technology
(Materials Technology)
巻:
27
号:
1
ページ:
30-33
発行年:
2012年02月
JST資料番号:
E0072B
ISSN:
1066-7857
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)