文献
J-GLOBAL ID:201202271124625573
整理番号:12A1217289
NbxO/Wの多層膜の深さ方向プロファイリング:一次イオンビーム種の影響(O2+,Ar+およびCs+)
Depth profiling of NbxO/W multilayers: effect of primary ion beam species (O2+, Ar+ and Cs+)
著者 (4件):
HE A.
(Univ. Alberta, Edmonton, CAN)
,
XU S.
(Univ. Alberta, Edmonton, CAN)
,
FOROUGHI-ABARI A.
(Univ. Alberta, Edmonton, CAN)
,
KARPUZOV D.
(Univ. Alberta, Edmonton, CAN)
資料名:
Surface and Interface Analysis
(Surface and Interface Analysis)
巻:
44
号:
8
ページ:
934-937
発行年:
2012年08月
JST資料番号:
E0709A
ISSN:
0142-2421
CODEN:
SIANDQ
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)