文献
J-GLOBAL ID:201202271258387245
整理番号:12A1467152
多結晶薄膜誘電体における破壊時間の広い分布の起源
The origin of broad distribution of breakdown times in polycrystalline thin film dielectrics
著者 (7件):
MASUDUZZAMAN Muhammad
(School of Electrical and Computer Engineering, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
XIE Sujing
(Texas Instruments Inc., Dallas, Texas 75243, USA)
,
CHUNG Jayhoon
(Texas Instruments Inc., Dallas, Texas 75243, USA)
,
VARGHESE Dhanoop
(Texas Instruments Inc., Dallas, Texas 75243, USA)
,
RODRIGUEZ John
(Texas Instruments Inc., Dallas, Texas 75243, USA)
,
KRISHNAN Srikanth
(Texas Instruments Inc., Dallas, Texas 75243, USA)
,
ASHRAFUL ALAM Muhammad
(School of Electrical and Computer Engineering, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
101
号:
15
ページ:
153511-153511-5
発行年:
2012年10月08日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)