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文献
J-GLOBAL ID:201202271650940041   整理番号:12A1367519

大面積のII-VI材料成長のための原子状水素を用いた酸化物除去のX線光電子分光法の研究

X-Ray Photoelectron Spectroscopy Study of Oxide Removal Using Atomic Hydrogen for Large-Area II-VI Material Growth
著者 (5件):
LEE Kyoung-Keun
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
DOYLE Kevin
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
CHAI Jessica
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
DINAN John H.
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
MYERS Thomas H.
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)

資料名:
Journal of Electronic Materials  (Journal of Electronic Materials)

巻: 41  号: 10  ページ: 2799-2809  発行年: 2012年10月 
JST資料番号: D0277B  ISSN: 0361-5235  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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