文献
J-GLOBAL ID:201202271650940041
整理番号:12A1367519
大面積のII-VI材料成長のための原子状水素を用いた酸化物除去のX線光電子分光法の研究
X-Ray Photoelectron Spectroscopy Study of Oxide Removal Using Atomic Hydrogen for Large-Area II-VI Material Growth
著者 (5件):
LEE Kyoung-Keun
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
,
DOYLE Kevin
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
,
CHAI Jessica
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
,
DINAN John H.
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
,
MYERS Thomas H.
(Texas State Univ., Material Sci., Engineering, and Commercialization Program, 78666, San Marcos, TX, USA)
資料名:
Journal of Electronic Materials
(Journal of Electronic Materials)
巻:
41
号:
10
ページ:
2799-2809
発行年:
2012年10月
JST資料番号:
D0277B
ISSN:
0361-5235
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)