文献
J-GLOBAL ID:201202271703928014
整理番号:12A0121626
ドライエッチしたトレンチの低温アルカリ処理による高アスペクト比の単結晶シリコン懸垂ナノブリッジの加工
Elaboration of high aspect ratio monocrystalline silicon suspended nanobridges by low temperature alkaline treatment of dry etched trenches
著者 (5件):
DEFFORGE Thomas
(Univ. Francois Rabelais de Tours, Lab. de Microelectronique de Puissance, 16 Rue Pierre et Marie Curie, BP 7155 ...)
,
GAUTIER Gaeel
(Univ. Francois Rabelais de Tours, Lab. de Microelectronique de Puissance, 16 Rue Pierre et Marie Curie, BP 7155 ...)
,
TILLOCHER Thomas
(Groupe de Recherches sur l’Energetique des Milieux Ionises, CNRS/Polytech’Orleans, Orleans Cedex 2, FRA)
,
DUSSART Remi
(Groupe de Recherches sur l’Energetique des Milieux Ionises, CNRS/Polytech’Orleans, Orleans Cedex 2, FRA)
,
TRAN-VAN Francois
(Univ. Francois Rabelais de Tours, Lab. de Physico-Chimie des Materiaux et Biomolecules, EA 4244, Parc de Grandmont ...)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
30
号:
1
ページ:
010601
発行年:
2012年01月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)