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文献
J-GLOBAL ID：201202271858048851
整理番号：12A1754196
PおよびN型Bi2Te3膜の熱電特性に対するスパッタリング処理パラメータの効果
Effect of Sputtering Process Parameters on the Thermoelectric Properties of P and N-type Bi2Te3 Films
ARINA
(Republic Polytechnic, SGP)
,
CHOW Hui Fan Shermin
(Republic Polytechnic, SGP)
,
BARI Shamira Banu Abdul
(Republic Polytechnic, SGP)
,
LIN Chia Ai
(Republic Polytechnic, SGP)
,
KO San Ye
(Republic Polytechnic, SGP)
,
KHONG Samuel
(Republic Polytechnic, SGP)
,
SIM Jonathan
(Republic Polytechnic, SGP)
,
EZHILVALAVAN S.
(Republic Polytechnic, SGP)
,
MA Jan
(Nanyang Technological Univ., SGP)
,
HOON Heng Hui
(Nanyang Technological Univ., SGP)
資料名：
Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena
(Diffusion and Defect Data Part B. Solid State Phenomena)
巻： 185 ページ： 94-98 発行年： 2012年
JST資料番号： T0583A ISSN： 1012-0394 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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