文献
J-GLOBAL ID:201202272486679767
整理番号:12A1215609
サブ解像度バナリーグレースケールマスクを用いてプログラム化したSiフォトニック用レジスト側壁プロファイル
Programmed resist sidewall profiles using sub-resolution binary gray-scale masks for Si-photonics applications
著者 (7件):
GAN Ofir
(Micron Semiconductor Israel Ltd, Kiryat-Gat, ISR)
,
ALLEN Paul
(Toppan Photomasks, Inc., Oregon, USA)
,
BARKAI Assia
(Micron Semiconductor Israel Ltd, Kiryat-Gat, ISR)
,
BUCK Peter
(Toppan Photomasks, Inc., Oregon, USA)
,
CONNOLLY Brid
(Toppan Photomasks Germany, Dresden, DEU)
,
FRISH Harel
(Micron Semiconductor Israel Ltd, Kiryat-Gat, ISR)
,
PINDO Massimiliano
(Toppan Photomasks France, Rousset, FRA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8249
ページ:
82490W.1-82490W.16
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)