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文献
J-GLOBAL ID:201202273726709550   整理番号:12A0579357

in situ CCVD(触媒化学蒸着)によって成長したグラフェントランジスタのヒステリシス

Hysteresis of In Situ CCVD Grown Graphene Transistors
著者 (5件):
WESSELY P. J.
(Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU)
WESSELY F.
(Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU)
BIRINCI E.
(Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU)
RIEDINGER B.
(Fraunhofer-Inst. Werkstoffmechanik, Freiburg, DEU)
SCHWALKE U.
(Technische Univ. Darmstadt, Darmstadt, DEU)

資料名:
Electrochemical and Solid-State Letters  (Electrochemical and Solid-State Letters)

巻: 15  号:ページ: K31-K34  発行年: 2012年 
JST資料番号: W1290A  ISSN: 1099-0062  CODEN: ESLEF6  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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