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文献
J-GLOBAL ID：201202274811562890
整理番号：12A0527580
青色多重レーザダイオードアニーリングによるサブミクロン厚の珪素膜の結晶化
Crystallization of Silicon Films of Submicron Thickness by Blue-Multi-Laser-Diode Annealing
MUGIRANEZA Jean de Dieu
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
SHIRAI Katsuya
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
SUZUKI Toshiharu
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
OKADA Tatsuya
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
NOGUCHI Takashi
(Univ. Ryukyus, Okinawa, JPN)
,
MATSUSHIMA Hideki
(Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN)
,
HASHIMOTO Takao
(Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN)
,
OGINO Yoshiaki
(Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN)
,
SAHOTA Eiji
(Hitachi Computer Peripherals Co. Ltd, Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of the Korean Physical Society
(Journal of the Korean Physical Society)
巻： 60 号： 1 ページ： 88-93 発行年： 2012年01月13日
JST資料番号： T0357A ISSN： 0374-4884 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： 韓国 (KOR) 言語： 英語 (EN)
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