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文献
J-GLOBAL ID：201202275264008855
整理番号：12A0248627
水素ガスがある場合でのPt薄膜の仕事関数と電気抵抗の変化
Changes in Work Function and Electrical Resistance of Pt Thin Films in the Presence of Hydrogen Gas
TSUKADA Keiji
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
INOUE Hirotsugu
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
KATAYAMA Fumiya
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
SAKAI Kenji
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
,
KIWA Toshihiko
(Okayama Univ., Okayama, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 51 号： 1,Issue 1 ページ： 015701.1-015701.8 発行年： 2012年01月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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