文献
J-GLOBAL ID:201202276667053903
整理番号:12A1191014
室温におけるAr+H2雰囲気中のRFスパッタリングによるAZO膜の厚み研究
Thickness study of AZO films by RF sputtering in Ar+H2 atmosphere at room temperature
著者 (6件):
ZHU B. L.
(Wuhan Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
WANG J.
(Wuhan Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
ZHU S. J.
(Wuhan Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
WU J.
(Wuhan Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
ZENG D. W.
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
,
XIE C. S.
(Huazhong Univ. Sci. and Technol., Wuhan, CHN)
資料名:
Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science
(Physica Status Solidi. A. Applications and Materials Science)
巻:
209
号:
7
ページ:
1251-1258
発行年:
2012年07月
JST資料番号:
D0774A
ISSN:
1862-6300
CODEN:
PSSABA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)