文献
J-GLOBAL ID:201202276788084202
整理番号:12A1092687
感光性ジアゾ/PVAレジストへのグラフェンの適用
Application of Graphene to Photosensitive Diazo/PVA Resist
著者 (7件):
HARADA Kieko
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
OKADA Masaki
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
HIAKI Toshihiro
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
MATSUDA Kiyomi
(Nihon Univ., Chiba, JPN)
,
TAKAHARA Shigeru
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
HOSHINO Katsuyoshi
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
,
SUGITA Kazuyuki
(Chiba Univ., Chiba, JPN)
資料名:
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻:
25
号:
4
ページ:
439-444
発行年:
2012年
JST資料番号:
L0202A
ISSN:
0914-9244
CODEN:
JSTEEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)