文献
J-GLOBAL ID:201202277079215081
整理番号:12A0304960
FTO基質上Co-Cu合金薄膜の電着の研究
A study of the electrodeposition of Co-Cu alloys thin films on FTO substrate
著者 (1件):
MENTAR Loubna
(Univ. F. Abbas Setif, Lab. de Chimie, Ingenierie Moleculaire et Nanostructures, 19000, Setif, DZA)
資料名:
Ionics
(Ionics)
巻:
18
号:
1-2
ページ:
223-229
発行年:
2012年01月
JST資料番号:
W1953A
ISSN:
0947-7047
資料種別:
逐次刊行物 (A)
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)