文献
J-GLOBAL ID:201202278004800570
整理番号:12A0819283
方向性光流動化リソグラフィー アゾベンゼン材料の光流体運動によるミクロ/ナノ構造変化
Directional Photofluidization Lithography: Micro/Nanostructural Evolution by Photofluidic Motions of Azobenzene Materials
著者 (3件):
LEE Seungwoo
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)
,
KANG Hong Suk
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)
,
PARK Jung-Ki
(Korea Advanced Inst. of Sci. and Technol. (KAIST), Daejeon, KOR)
資料名:
Advanced Materials
(Advanced Materials)
巻:
24
号:
16
ページ:
2069-2103
発行年:
2012年04月24日
JST資料番号:
W0001A
ISSN:
0935-9648
CODEN:
ADVMEW
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)