文献
J-GLOBAL ID:201202278032206099
整理番号:12A0616126
RFマグネトロンスパッタリングで作製したLiMn2O4膜の成長条件の研究
Investigation of deposition condition of LiMn2O4 films prepared by RF magnetron sputtering
著者 (2件):
ISAI Masaaki
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
,
NAKAMURA Mitsuhiro
(Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名:
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻:
37
号:
1
ページ:
99-101
発行年:
2012年03月
JST資料番号:
L4468A
ISSN:
1382-3469
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)