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文献
J-GLOBAL ID：201202279251943348
整理番号：12A0819405
TiN材料のドーパント活性化および熱安定性に用いる低温マイクロ波アニーリングプロセス
Low-Temperature Microwave Annealing Process for Dopant Activation and Thermal Stability of TiN Material
TSAI Bo-An
(National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LAI Chiung-Hui
(Chung Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
LEE Bo-Shiun
(Chung Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
LUO Chih-Wei
(National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LEE Yao-Jen
(National Nano Device Lab., Hsinchu, TWN)
,
LEE Yao-Jen
(National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN)
資料名：
Electrochemical and Solid-State Letters
(Electrochemical and Solid-State Letters)
巻： 15 号： 6 ページ： H185-H187 発行年： 2012年
JST資料番号： W1290A ISSN： 1099-0062 CODEN： ESLEF6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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