文献
J-GLOBAL ID:201202279251943348
整理番号:12A0819405
TiN材料のドーパント活性化および熱安定性に用いる低温マイクロ波アニーリングプロセス
Low-Temperature Microwave Annealing Process for Dopant Activation and Thermal Stability of TiN Material
著者 (6件):
TSAI Bo-An
(National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LAI Chiung-Hui
(Chung Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
LEE Bo-Shiun
(Chung Hua Univ., Hsinchu, TWN)
,
LUO Chih-Wei
(National Chiao-Tung Univ., Hsinchu, TWN)
,
LEE Yao-Jen
(National Nano Device Lab., Hsinchu, TWN)
,
LEE Yao-Jen
(National Chung Hsing Univ., Taichung, TWN)
資料名:
Electrochemical and Solid-State Letters
(Electrochemical and Solid-State Letters)
巻:
15
号:
6
ページ:
H185-H187
発行年:
2012年
JST資料番号:
W1290A
ISSN:
1099-0062
CODEN:
ESLEF6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)