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文献
J-GLOBAL ID：201202279574212890
整理番号：12A1371189
Heイオン顕微鏡による白金堆積及びサブ表面のシリコン損傷の構造評価
Structural characterization of He ion microscope platinum deposition and sub-surface silicon damage
DREZNER Yariv
(Intel Israel (74) Ltd., P.O. Box 1659, Haifa 31015, ISR)
,
GREENZWEIG Yuval
(Intel Israel (74) Ltd., P.O. Box 1659, Haifa 31015, ISR)
,
FISHMAN Daniel
(Intel Israel (74) Ltd., FAB 28, Qiryat Gat, 82109 Israel)
,
VAN VELDHOVEN Emile
(TNO, Stieltjesweg 1, 2628 CK Delft, NLD)
,
MAAS Diederik J.
(TNO, Stieltjesweg 1, 2628 CK Delft, NLD)
,
RAVEH Amir
(Intel Israel (74) Ltd., P.O. Box 1659, Haifa 31015, ISR)
,
LIVENGOOD Richard H.
(Intel Corp., 2200 Mission Coll. Blvd., Santa Clara, California 95054)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena)
巻： 30 号： 4 ページ： 041210-041210-8 発行年： 2012年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 2166-2746 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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