文献
J-GLOBAL ID:201202284932635351
整理番号:12A0944091
ナノからミクロンまでの尺度のヘテロエピタキシャル被覆層のパターン形成
Patterning of Heteroepitaxial Overlayers from Nano to Micron Scales
著者 (10件):
ELDER K. R.
(Oakland Univ., Michigan, USA)
,
ROSSI G.
(Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN)
,
KANERVA P.
(Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN)
,
SANCHES F.
(Oakland Univ., Michigan, USA)
,
YING S-C.
(Brown Univ., Rhode Island, USA)
,
GRANATO E.
(Brown Univ., Rhode Island, USA)
,
GRANATO E.
(Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais, SP, BRA)
,
ACHIM C. V.
(Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN)
,
ALA-NISSILA T.
(Aalto Univ. School of Sci., Espoo, FIN)
,
ALA-NISSILA T.
(Brown Univ., Rhode Island, USA)
資料名:
Physical Review Letters
(Physical Review Letters)
巻:
108
号:
22
ページ:
226102.1-226102.5
発行年:
2012年06月01日
JST資料番号:
H0070A
ISSN:
0031-9007
CODEN:
PRLTAO
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)