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文献
J-GLOBAL ID:201202285531199679   整理番号:12A0507758

ホットキャリアストレス下での非晶質インジウム-ガリウム-亜鉛-酸化物薄膜トランジスターにおける酸素吸着により誘起される異常静電容量崩壊

Oxygen-Adsorption-Induced Anomalous Capacitance Degradation in Amorphous Indium-Gallium-Zinc-Oxide Thin-Film-Transistors under Hot-Carrier Stress
著者 (8件):
CHUNG Wan-Fang
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
CHANG Ting-Chang
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
LIN Chia-Sheng
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
TU Kuan-Jen
(National Tsing Hua Univ., Hsinchu, TWN)
LI Hung-Wei
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
TSENG Tseung-Yuen
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)
CHEN Ying-Chung
(National Sun Yat-Sen Univ., Kaohsiung, TWN)
TAI Ya-Hsiang
(National Chiao Tung Univ., Hsinchu, TWN)

資料名:
Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)

巻: 159  号:ページ: H286-H289  発行年: 2012年 
JST資料番号: C0285A  ISSN: 1945-7111  CODEN: JESOAN  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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