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文献
J-GLOBAL ID：201202285585994695
整理番号：12A0955562
BiFeO3上に堆積させたCoFe膜における光制御磁気抵抗と磁界制御の光抵抗
Light controlled magnetoresistance and magnetic field controlled photoresistance in CoFe film deposited on BiFeO3
KUNDYS B.
(Inst. de Physique et de Chimie des Materiaux de Strasbourg (IPCMS), UMR 7504 CNRS-ULP, 67034 Strasbourg, FRA)
,
MENY C.
(Inst. de Physique et de Chimie des Materiaux de Strasbourg (IPCMS), UMR 7504 CNRS-ULP, 67034 Strasbourg, FRA)
,
GIBBS M. R. J.
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Sheffield, Sheffield S1 3JD, GBR)
,
DA COSTA V.
(Inst. de Physique et de Chimie des Materiaux de Strasbourg (IPCMS), UMR 7504 CNRS-ULP, 67034 Strasbourg, FRA)
,
VIRET M.
(Serv. de Physique de l’EtatCondense, DSM/IRAMIS/SPEC, CEA Saclay URA CNRS 2464, 91191 Gif-Sur-Yvette Cedex, FRA)
,
ACOSTA M.
(Inst. de Physique et de Chimie des Materiaux de Strasbourg (IPCMS), UMR 7504 CNRS-ULP, 67034 Strasbourg, FRA)
,
COLSON D.
(Serv. de Physique de l’EtatCondense, DSM/IRAMIS/SPEC, CEA Saclay URA CNRS 2464, 91191 Gif-Sur-Yvette Cedex, FRA)
,
DOUDIN B.
(Inst. de Physique et de Chimie des Materiaux de Strasbourg (IPCMS), UMR 7504 CNRS-ULP, 67034 Strasbourg, FRA)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 100 号： 26 ページ： 262411-262411-4 発行年： 2012年06月25日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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