文献
J-GLOBAL ID:201202286260949770
整理番号:12A0849848
酸化物薄膜の作製のための大気圧の直接方式および間接方式のプラズマ支援CVD
Direct and Remote Plasma Assisted CVD at Atmospheric Pressure for the Preparation of Oxide Thin Films
著者 (6件):
PFUCH Andreas
(Innovent e.V., Jena)
,
HORN Kerstin
(Innovent e.V., Jena)
,
MIX Renate
(BAM Bundesanstalt fuer Materialforschung und -pruefung, Berlin)
,
RAMM Max
(Innovent e.V., Jena)
,
HEFT Andreas
(Innovent e.V., Jena)
,
SCHIMANSKI Arnd
(Innovent e.V., Jena)
資料名:
Galvanotechnik
(Galvanotechnik)
巻:
103
号:
4
ページ:
814-830
発行年:
2012年04月
JST資料番号:
E0309A
ISSN:
0016-4232
CODEN:
GVTKA
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)