文献
J-GLOBAL ID:201202286515277534
整理番号:12A1737849
新マスクパターン検査装置NPI-7000の開発とEUVマスク検査への適用結果
Development of a new mask pattern inspection tool NPI-7000, and applied results to EUV mask inspection
著者 (5件):
HASHIMOTO Hideaki
(Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN)
,
KIKUIRI Nobutaka
(Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN)
,
ISOMURA Ikunao
(Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN)
,
ISOBE Manabu
(Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN)
,
MUSASHI Noriaki
(Nuflare Technol., Inc.(NFT), Yokohama-shi, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8441
ページ:
844117.1-844117.9
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)