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文献
J-GLOBAL ID：201202289005875126
整理番号：12A0593608
パルスレーザ蒸着による酸化ガリウム薄膜の成長とエッチング特性
Growth and etching characteristics of gallium oxide thin films by pulsed laser deposition
OU Sin-liang
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan, TWN)
,
WUU Dong-sing
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan, TWN)
,
WUU Dong-sing
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Da-Yeh Univ., Changhua 51591, Taiwan, TWN)
,
FU Yu-chuan
(Inst. of Precision Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan, TWN)
,
LIU Shu-ping
(Inst. of Precision Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan, TWN)
,
HORNG Ray-hua
(Inst. of Precision Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan, TWN)
,
HORNG Ray-hua
(Dep. of Electro-Optical Engineering, National Cheng Kung Univ., Tainan 70101, Taiwan, TWN)
,
LIU Lei
(Inst. of Photonics & Optoelectronics, and Dep. of Electrical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei 10617 ...)
,
FENG Zhe-chuan
(Inst. of Photonics & Optoelectronics, and Dep. of Electrical Engineering, National Taiwan Univ., Taipei 10617 ...)
資料名：
Materials Chemistry and Physics
(Materials Chemistry and Physics)
巻： 133 号： 2-3 ページ： 700-705 発行年： 2012年04月16日
JST資料番号： E0934A ISSN： 0254-0584 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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