文献
J-GLOBAL ID:201202291723631086
整理番号:12A1215589
光阻害超解像(PINSR)リソグラフィー用の材料開発
Materials development for PhotoINhibited SuperResolution (PINSR) lithography
著者 (3件):
FORMAN Darren L.
(Univ. Colorado at Boulder, USA)
,
HEUVELMAN Gerrit L.
(Heidelberg Instruments, DEU)
,
MCLEOD Robert R.
(Univ. Colorado at Boulder, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8249
ページ:
824904.1-824904.9
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
文献レビュー
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)