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文献
J-GLOBAL ID：201202292109431930
整理番号：12A0416865
高温下における銅の斜めイオンエッチング
Oblique Ion Etching for Copper at Elevated Temperature
HINO T.
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
HINO T.
(Sci. Solutions International Lab. Inc., Tokyo, JPN)
,
KOBAYASHI T.
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
YAMAUCHI Y.
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
NOBUTA Y.
(Hokkaido Univ., Sapporo, JPN)
,
NISHIKAWA M.
(Sci. Solutions International Lab. Inc., Tokyo, JPN)
資料名：
Materials Science Forum
(Materials Science Forum)
巻： 670 ページ： 131-134 発行年： 2011年
JST資料番号： D0716B ISSN： 0255-5476 資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE) 言語： 英語 (EN)
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