文献
J-GLOBAL ID:201202294513383780
整理番号:12A1439420
ソースマスク最適化によるリソグラフィターゲット最適化
Lithography Target Optimization with Source-Mask Optimization
著者 (4件):
DENG Yunfei
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
COSKUN Tamer H.
(Cadence Design Systems, Inc., CA, USA)
,
KYE Jongwook
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
,
LEVINSON Harry J.
(GLOBALFOUNDRIES, CA, USA)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
8326
号:
Pt.2
ページ:
83262P.1-86262P.8
発行年:
2012年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)