文献
J-GLOBAL ID:201202294529776781
整理番号:12A0248632
プラズマプロセス・チャンバ内のガス流特性,及び,ガス圧の短時間安定化用の干渉マトリックス操作による新規パルス制御ガス注入法の提案
Gas Flow Characteristics in a Plasma Process Chamber and Proposal of New Pulse-Controlled Gas Injection Method Using Interference Matrix Operation for Rapid Stabilization of Gas Pressure
著者 (4件):
MORISHITA Sadaharu
(OMRON Corp., Kyoto, JPN)
,
GOTO Tetsuya
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
SHIRAI Yasuyuki
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
,
OHMI Tadahiro
(Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻:
51
号:
1,Issue 1
ページ:
016001.1-016001.8
発行年:
2012年01月25日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
CODEN:
JJAPB6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)