文献
J-GLOBAL ID:201202295121607830
整理番号:12A0955631
ターゲットスパッタリングと注入工程に及ぼすイオン源構成と動作パラメータの影響
Influence of ion source configuration and its operation parameters on the target sputtering and implantation process
著者 (4件):
SHALNOV K. V.
(Nagata Seiki Co, 8-2, Kamisuwa, Tsubame-shi, Niigata-ken, 959-0181, JPN)
,
KUKHTA V. R.
(Nagata Seiki Co, 8-2, Kamisuwa, Tsubame-shi, Niigata-ken, 959-0181, JPN)
,
UEMURA K.
(Nagata Seiki Co, 8-2, Kamisuwa, Tsubame-shi, Niigata-ken, 959-0181, JPN)
,
ITO Y.
(Nagaoka Univ. of Technol., Nagaoka, 940-2188, JPN)
資料名:
Review of Scientific Instruments
(Review of Scientific Instruments)
巻:
83
号:
6
ページ:
063304-063304-8
発行年:
2012年06月
JST資料番号:
D0517A
ISSN:
0034-6748
CODEN:
RSINAK
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)