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文献
J-GLOBAL ID：201202295677865714
整理番号：12A0873975
Ti/HfO2抵抗スイッチング構造におけるエレクトロフォーミングの硬X線光電子分光研究
Hard x-ray photoelectron spectroscopy study of the electroforming in Ti/HfO2-based resistive switching structures
SOWINSKA M.
(IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), DEU)
,
BERTAUD T.
(IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), DEU)
,
WALCZYK D.
(IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), DEU)
,
THIESS S.
(Deutsches Elektronen-Synchrotron DESY, Notkestrasse 85, 22607 Hamburg, DEU)
,
SCHUBERT M. A.
(IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), DEU)
,
LUKOSIUS M.
(IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), DEU)
,
DRUBE W.
(Deutsches Elektronen-Synchrotron DESY, Notkestrasse 85, 22607 Hamburg, DEU)
,
WALCZYK Ch.
(IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), DEU)
,
SCHROEDER T.
(IHP, Im Technologiepark 25, 15236 Frankfurt (Oder), DEU)
資料名：
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻： 100 号： 23 ページ： 233509-233509-5 発行年： 2012年06月04日
JST資料番号： H0613A ISSN： 0003-6951 CODEN： APPLAB 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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