文献
J-GLOBAL ID:201202298918501386
整理番号:12A0562913
サブ100nmリフトオフ構造用先進的コロイドリソグラフィー
Advanced colloidal lithography for sub-100 nm lift-off structures
著者 (4件):
HOMONNAY Nico
(Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...)
,
GEYER Nadine
(Max Planck Inst. of Microstructure Physics, Weinberg 2, D-06120 Halle, DEU)
,
FUHRMANN Bodo
(Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...)
,
LEIPNER Hartmut S.
(Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...)
資料名:
Vacuum
(Vacuum)
巻:
86
号:
9
ページ:
1232-1234
発行年:
2012年03月14日
JST資料番号:
E0347A
ISSN:
0042-207X
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
イギリス (GBR)
言語:
英語 (EN)