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文献
J-GLOBAL ID:201202298918501386   整理番号:12A0562913

サブ100nmリフトオフ構造用先進的コロイドリソグラフィー

Advanced colloidal lithography for sub-100 nm lift-off structures
著者 (4件):
HOMONNAY Nico
(Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...)
GEYER Nadine
(Max Planck Inst. of Microstructure Physics, Weinberg 2, D-06120 Halle, DEU)
FUHRMANN Bodo
(Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...)
LEIPNER Hartmut S.
(Interdisziplinaeres Zentrum fuer Materialwissenschaften, Martin-Luther-Universitaet Halle-Wittenberg ...)

資料名:
Vacuum  (Vacuum)

巻: 86  号:ページ: 1232-1234  発行年: 2012年03月14日 
JST資料番号: E0347A  ISSN: 0042-207X  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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