文献
J-GLOBAL ID:201202299105902665
整理番号:12A0783905
バルクおよび薄膜シリコンの熱伝導 Landauerの方法
Thermal conductivity of bulk and thin-film silicon: A Landauer approach
著者 (3件):
JEONG Changwook
(Network for Computational Nanotechnology, Birck Nanotechnology Center, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
DATTA Supriyo
(Network for Computational Nanotechnology, Birck Nanotechnology Center, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
,
LUNDSTROM Mark
(Network for Computational Nanotechnology, Birck Nanotechnology Center, Purdue Univ., West Lafayette, Indiana 47907, USA)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
111
号:
9
ページ:
093708-093708-6
発行年:
2012年05月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)