文献
J-GLOBAL ID:201302105838991468
整理番号:95A0875553
ビス(トリメチル)シリルアミド錯化合物M(N(SiMe3)2)nを用いた鉄,マンガン,コバルト,銅,ゲルマニウム及びすずの金属薄膜の低圧化学蒸着
Low Pressure Chemical Vapor Deposition of Metallic Films of Iron, Manganese, Cobalt, Copper, Germanium and Tin Employing Bis(trimethyl)silylamido Complexes, M(N(SiMe3)2)n.
著者 (5件):
BAXTER D V
(Indiana Univ., IN, USA)
,
CHISHOLM M H
(Indiana Univ., IN, USA)
,
GAMA G J
(Indiana Univ., IN, USA)
,
HECTOR A L
(London Univ., London, GBR)
,
PARKIN I P
(London Univ., London, GBR)
資料名:
Chemical Vapor Deposition
(Chemical Vapor Deposition)
巻:
1
号:
2
ページ:
49-51
発行年:
1995年09月
JST資料番号:
W0908A
ISSN:
0948-1907
CODEN:
CVDEFX
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
ドイツ (DEU)
言語:
英語 (EN)