文献
J-GLOBAL ID:201302212151359819
整理番号:12A1798782
金属-シリコン界面における温度が関わる非線形性の研究
A study of temperature-related non-linearity at the metal-silicon interface
著者 (11件):
GAMMON P. M.
(School of Engineering, Univ. of Warwick, Coventry CV4 7AL, GBR)
,
DONCHEV E.
(Dep. of Materials, Imperial Coll. London, London SW7 2AZ, GBR)
,
PEREZ-TOMAS A.
(IMB-CNM-CSIC, Campus UAB, 08193 Barcelona, ESP)
,
SHAH V. A.
(Physics Dep., Univ. of Warwick, Coventry CV4 7AL, GBR)
,
PANG J. S.
(Dep. of Materials, Imperial Coll. London, London SW7 2AZ, GBR)
,
PETROV P. K.
(Dep. of Materials, Imperial Coll. London, London SW7 2AZ, GBR)
,
JENNINGS M. R.
(School of Engineering, Univ. of Warwick, Coventry CV4 7AL, GBR)
,
FISHER C. A.
(School of Engineering, Univ. of Warwick, Coventry CV4 7AL, GBR)
,
MAWBY P. A.
(School of Engineering, Univ. of Warwick, Coventry CV4 7AL, GBR)
,
LEADLEY D. R.
(Physics Dep., Univ. of Warwick, Coventry CV4 7AL, GBR)
,
MCN. ALFORD N.
(Dep. of Materials, Imperial Coll. London, London SW7 2AZ, GBR)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
112
号:
11
ページ:
114513-114513-11
発行年:
2012年12月01日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)