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文献
J-GLOBAL ID：201302213587652984
整理番号：13A1205318
レーザアニーリングにより行った超薄Ni(Pt)Si薄膜形成
Ultrathin Ni(Pt)Si Film Formation Induced by Laser Annealing
LI Long
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
,
JIANG Yu-Long
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
,
LI Bing-Zong
(Fudan Univ., Shanghai, CHN)
資料名：
IEEE Electron Device Letters
(IEEE Electron Device Letters)
巻： 34 号： 7 ページ： 912-914 発行年： 2013年07月
JST資料番号： B0344B ISSN： 0741-3106 CODEN： EDLEDZ 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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